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擦金布回收

更新时间:2024-05-13 10:33:30 编号:852dml6q0f669a
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电镀金始于1838年英国人发明的氰化物镀金,主要用于装饰。20世纪40年代电子工业发展,金价暴涨,大都采用镀薄金。为了进一步节约金,20世纪60年代出现了刷镀金(即选择性镀金),20世纪80年代出现了脉冲镀金和镭射镀金。1950年发现氰化金钾在有机酸存在下的稳定性,进而出现了中性和弱酸性镀金液;20世纪60年代后期无氰镀金也得到了应用,尤其是以亚硫酸盐镀金应用广。

电镀金已有两百多年的历史。金镀层具有金黄色外观,具有良好的化学稳定性、耐变色性、导电性、耐腐蚀性和抗氧化性,同时可焊性好、接触电阻低、可热压键合性能优良,使得电镀金镀层既可以作为装饰性镀层,又可作为功能性、防护性镀层,。因此,电镀金被广泛应用于首饰、钟表、工艺品以及电子、仪器、仪表、航空、航天等工业领域。国内外使用的大部分电镀金工艺均含有氰化物,传统的氰化物镀金溶液稳定可靠、电流、有良好的分散能力和覆盖能力,镀层结晶细致有光泽、结合力好。但氰化物对环境和人体危害,随着环保要求的提高,镀液向无氰、环保的方向发展,无氰镀金工艺取代含氰工艺是大势所趋。 常用的镀金溶液可分为碱性氰化物、酸性微氰、中性微氰和非氰化物4类。镀金液多为专利配方,添加剂由公司供应。

无氰电镀金– 钴合金1979 年桑德斯托姆(Sandstorm)和沃斯顿(Waston)测定了电镀金–钴合金的阴极极化曲线,并讨论了溶液中金离子和钴离子浓度、镀液 pH、电流密度、搅拌等因素对阴极效率和镀层中钴含量的影响。金和钴的共沉积能够明显提高金镀层的硬度,电镀镀层的显微硬度大约为 70 HV,而采用金–钴电镀液得到的金合金镀层的显微硬度可达到 130 HV。金–钴合金镀层主要用于集成电路电接点、印刷电路板等耐磨件。已投产的或在研制中的无氰电镀金–钴合金镀液有以下一些类型:卤化物镀液、硫代硫酸盐镀液、硫代苹果酸盐镀液、亚硫酸盐镀液、焦磷酸盐镀液等 。

镀液组成和工艺条件

碱性氰化物镀金液分散能力好,镀液稳定,便于操作和维 护,氰化镀金的镀层孔隙率较高,耐磨及抗蚀性较差。由于镀液 含氰量较高,近年来使用量已大幅减少,并且多数用于装饰性薄金。碱性氰化物镀金液由于碱性较大,不宜用于印刷电路版电镀。镀液中各组分的作用

氰化金钾。是镀液中的主盐,是镀层中金的来源。金含量太低,镀层发红,粗糙。氰化金钾要先溶于去离子水中,再 加入镀液。

氰化钾 (氰化钠)。配合剂,适量游离氰化钾的存在, 能使镀液稳定,镀层结晶细致,金阳极正常溶解。含量过低,镀液不稳定,镀层粗糙,色泽不好。

用五倍体积的蒸馏水溶解三氯化金。然后在不断搅拌下缓慢 加入氨水(1g需浓氨水10mL),生成淡黄色的沉淀 (雷酸 金)。不断搅拌、蒸发除氨,至无氨味为止 (除氨时要不断加 水,以防沉淀干燥)。过滤。用热水冲洗3~4次。雷酸金制备 过程中要防止干燥,制得后要尽快使用,以防爆炸。

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